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RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 태양전지용 질화 실리콘 반사방지막
Anti-reflection Coating of Silicon Nitride Film for Solar Cell by RF Magnetron Sputtering
- 최균;
- 최의석;
- 황진하;
- 이수홍
초록
Silicon nitride films for an anti-reflection coating were deposited on silicon via RF magnetron sputtering using a Si3N4 target. The best result was obtained at the sputtering condition of 340W RF power, 5 mtorr Ar atmosphere, 100 o C substrate temperature. The films showed 7.9% reflectance minimum with 2.35 refractive index, 0.21 absorption coefficient at 66.6 nm thickness. The surface morphology showed a smooth and dense film with good adhesion to silicon surface.
키워드
AR coating (anti-reflection coating); Silicon nitride; Solar cell; RF magnetron sputtering
- 제목
- RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 태양전지용 질화 실리콘 반사방지막
- 제목 (타언어)
- Anti-reflection Coating of Silicon Nitride Film for Solar Cell by RF Magnetron Sputtering
- 저자
- 최균; 최의석; 황진하; 이수홍
- 발행일
- 2007
- 저널명
- 한국세라믹학회지
- 권
- 44
- 호
- 10
- 페이지
- 585 ~ 588
- 출판사
- 한국세라믹학회
- 발행국가
- 대한민국
- 분량
- 4 페이지
- ISSN
- E 2234-0491
P 1229-7801