반사방지 나노 구조체를 이용한 AlGaN UV 광다이오드의 광반응도 향상

Improved photoresponsivity of AlGaN UV photodiode using antireflective nanostructure
  • 추닥득
  • 최준행
  • 김정진
  • 차호영

초록

본 연구에서는 Ni cluster를 이용하여 제작된 나노 구조체를 반사방지막으로 활용하여 비가시광 UV 광통신용 신호 수신단에 적용 가능한 AlGaN 광다이오드의 성능을 개선하는 구조를 제안하였다. 반사방지막의 제작은 SiO2 위에 Ni cluster를 형성한 후 SiO2를 부분적으로 식각하는 방식으로 제조하였다. 반사방지막이 적용된 샘플은 반사방지막이 없는 구조의 샘플에 비해 상대적으로 작아진 반사도를 보였으며 나노구조체가 없는 SiO2 가 증착된 구조에 비해서 입사 광파장의 변화에 대해 균일한 반사도를 보였다. 최종적으로 2 nm 두께의 Ni 층을 열처리하여 제작된 Ni cluster를 이용한 반사방지막을 적용하여 UV 광다이오드를 제작하였고, 그 결과 SiO2 단일막을 가진 센서에 비해 240 nm에서 270 nm 파장영역에서 개선된 광반응도를 보였다.

키워드

AlGaN비가시광 UV 광통신광다이오드반사방지구조AlGaNSolar-blind UV optical communicationPhotodiodeAnti-reflective structure
제목
반사방지 나노 구조체를 이용한 AlGaN UV 광다이오드의 광반응도 향상
제목 (타언어)
Improved photoresponsivity of AlGaN UV photodiode using antireflective nanostructure
저자
추닥득최준행김정진차호영
발행일
2020
저널명
한국정보통신학회논문지
24
10
페이지
1306 ~ 1311