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초록
플래시 램프 열처리(Flash lamp annealing, FLA) 공정은 저온폴리실리콘의 생산을 위한 기술로써 대면적 기판용 실리콘 결정화 기술로 기대 받고 있는 기술이다. 본 연구에서는 FLA 공정 중 기판에 발생하는 변형의 원인에 대하여 이론적인 해석과 이를 토대로 시뮬레이션을 수행하였다. 상용 FEM 해석 프로그램에 고온에서의 유리의 점성에 대한 모델을 적용하여, 고온에서 유리의 구조적인 수축과 응력이완으로 인한 영구변형을 수치적으로 재현하였다. 0 세대 실험시편(2cm x 2cm)의 경우 중력의 영향이 미미하여서, 실험 결과와 일치하는 ‘U’모양의 변형이 남는 것을 확인하였고, 4 세대 기판(74cm x 94cm)의 경우 중력으로 인하여 ‘M’모양의 변형이 발생하는 것을 시뮬레이션하였다.
키워드
플래시 램프 결정화; 유리기판위 비정질 실리콘; 대면적 디스플레이; 열변형; Flash Lamp Crystallization; Amorphous Silicon on Glass; Large-Window Display; Thermal Deformation
- 제목
- 플래시 램프를 이용한 비정질 실리콘 결정화 공정에서의 유리기판 열변형
- 제목 (타언어)
- Thermal Deformation of Glass Backplane during Flash Lamp Crystallization Process of Amorphous Silicon
- 저자
- 김동현; 김병국; 김형준; 정하승; 박승호
- 발행일
- 2012
- 저널명
- 대한기계학회논문집 B
- 권
- 36
- 호
- 10
- 페이지
- 1025 ~ 1032